高速太赫兹表面等离子激元成像研究取得新进展

　　近日，依托首都师范大学建设的“超材料与器件北京市重点实验室”在太赫兹表面等离子激元成像研究方面取得新进展，实现了对太赫兹表面等离子波的直接成像测量，并将成像速度大幅提升。相关研究成果已在国际著名期刊《Optics Express 》和《Physical Review A 》上发表。
　　表面等离子激元，是沿金属表面传播的电磁振荡，具有亚波长和局域场增强特性，可以实现纳米尺度的光信息传输与处理，在传感、隐身材料、医疗、超分辨光刻和成像等领域具有重要的研究价值和广阔的应用前景。
　　该重点实验室对探测光进行扩束和并引入CCD（电荷耦合元件）成像，在不降低分辨率的前提下，将太赫兹表面等离激元成像速度大幅提升，同时利用该系统研究了不同偏振态下太赫兹波激发的表面等离子激元的振幅和相位分布。该项研究对于表面等离子激元器件的全面表征和元器件的设计原理及实际应用具有重要的指导意义。