中央美术学院青年英才驻留计划系列展览亮相北京DRC工业设计创意产业基地
15.11.2014 12:56
本文来源: 科学技术委员会
“2014中央美术学院青年英才驻留计划系列展览”在北京DRC工业设计创意产业基地亮相。本次展览展示了马佳伟“本色”系列作品,形式多为综合材料、各色沙土、油彩等,思维开放,艺术色彩鲜明。
据悉,此次“青年英才驻留计划”是进一步完善并促进青年艺术人才脱颖而出的工作机制,让一批有想法、有需要、有准备、有能力继续提高毕业设计、毕业创作的优秀毕业生,获得再一次自我超越、自主创新的机会,探索中央美术学院高端艺术人才培养提升水准的新平台、新路径,特制定本“青年英才驻留计划”。
此次“驻留计划”将在实施过程中探索运行机制的创新,立足于艺术创新人才的社会化转型,吸引并嫁接多元化艺术资金投入,以实现逐渐转为社会资金运行、并逐步提高艺术创新人才的津贴标准为目标,为更多的高端艺术、设计人才在京驻留探索新的模式。
“青年英才驻留计划”为评审入选的优秀毕业生每人提供12000元驻留津贴,以鼓励驻留人才继续完成并优化毕业设计创作及相关创作作品,不仅如此,英才驻留计划得到了北京工业设计促进中心大力支持,协同为设计人才提供免费展示空间和发展平台。
本文来源: 科学技术委员会
15.11.2014 12:56